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GOS

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基于Gd2O2S:Pr:Ce陶瓷閃爍體在將X射線轉換為光線方面具有很高的效率,其衰減時間(t1 / 10 = 5.5 us)短得足以允許以1 ms的間隔重復成像,磷光低, 輻射穩定性高。 由于這些特性的組合,它們已廣泛用于醫學計算機斷層掃描中。 Gd2O2S 由于其寬的間隙(4.6-4.8eV),高化學穩定性和高密度,還可以生產用于彩色電視顯像管,醫療成像設備和上轉換發光的磷光體和閃爍陶瓷。 當前的GOS閃爍陶瓷作為用于X射線CT探測器應用的閃爍體材料非常有前途。

特點 應用
  • 發光效率高
  • 低余輝
  • 高光輸出
  • X射線吸收效率高
  • X射線CT
  • X射線顯微
  • 激光材料

材料特性

性質價值
材料Ge2O2S
密度 (g/cm3)7.34
晶體結構Hexagonal
晶格參數a=b=3.85827?
c=6.666659?
吸濕性No
解理面No
溶解度 (g/100gH2O)N/A

閃爍性質

波長(最大發射)(nm)510
波長范圍 (nm)480-900
衰減時間5.5
寬禁帶 (eV)4.6-4.8
光輸出(光子/MeV)27000
X射線衰減系數 (cm-1)52 at 70 keV
0.80 at 500 keV
余輝 (%)<0.01
輻射損傷 (%)-3

光譜

GOS emission spectrumGOS Absorption spectrum

GOS相關的應用:

X射線探測 醫學CT

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